![半导体光刻工艺中图形缺陷问题的研究及解决]()
论文摘要在摩尔定律的指引下,半导体工艺的发展经历了从0.35微米到0.25微米,0.18微米,0.13微米,直到现在国内大量生产的最先进的工艺0.09微米,同时0.045微米也...
![用于传像光纤束集成的折射微透镜阵列研究]()
论文摘要随着现代科学技术的飞速发展,微光学技术的制作工艺有了极大的提高,作为重要的微光学元器件家族的一员-微透镜在许多领域有了广泛的应用和迫切的需求。由于光纤有着良好的柔韧性和...
![45纳米掩膜版缺陷的可成像性研究]()
论文摘要随着沉浸式步进扫描光刻机台ASML1900Gi的引入,国内晶圆制造将逐步进入45纳米世代。由于关键尺寸的不断缩小,很多先进的分辨率增强技术,如光学临近修正(OPC)、相...
![用于高密度信息存储的环形滤光器件的理论和实验研究]()
论文摘要基于计算机辅助设计和微米级加工技术制成的二元或多元光学元器件具有高衍射效率、独特的色散性能、特殊的光学功能等优点，因此二元或多元光学元器件已广泛用于数据存储、光通信、光...
![微光学陀螺仪低损耗波导的设计与制造工艺研究]()
论文摘要高精度、高可靠性、重量轻、小型化是惯性导航系统追求的主要目标。陀螺仪作为捷联惯导系统的重要组成部分，成为各国重点发展的高科技军事和民用技术。微光学陀螺仪(MOG：mic...
![高精度微光学器件激光直写光刻系统研究]()
论文摘要近年来，集微光学、微电子、微机械装置于一体的MEMS和MOEMS技术迅猛发展，推动了微细加工技术的不断改进和提高，其中激光直写光刻技术因其控制灵活，不需要掩模，加工周期...
![八阶二元光学器件的光刻技术研究]()
论文摘要本文介绍了二元光学的发展状况以及制作二元光学器件的主要方法，特别是对激光直写制作掩模、光刻和蚀刻成型技术进行了详细的分析与研究。首先针对红外折／衍混合光学系统中八台阶二...
