光刻线宽论文

接近式曝光图形复制的计算机辅助分析与工艺优化
论文摘要接近式光刻是运用比较长久、技术成熟的一种光学曝光方式,但是在实际的批量生产的过程中有很多因素会影响到光刻后图形质量,导致图形失真。如光刻机的光源、硅片与掩模版之间的间隙...