光刻性能论文

浸没式ArF光刻CD均匀性研究
论文摘要根据下一代光刻技术发展趋势和2005年国际半导体技术路径图(ITRS)给出的技术路径,浸没式ArF(氟化氩)光刻是实现特征尺寸(CD,Criticaldimension...