光刻友好的版图设计论文

适用于超深亚微米集成电路制造与验证流程的光学邻近修正方法研究
论文摘要过去几十年来,微电子技术的高速发展以及各类应用对电路性能需求的日益增长使得现代集成电路系统的规模和复杂程度日趋提高,这必将对集成电路制造技术提出更高的要求。就当今主流的...