光学邻近校正论文

光刻可行性测试的实现及其优化方法
论文摘要随着集成电路进入超深亚微米阶段,半导体制造工艺中广泛采用了亚波长光刻技术,导致光刻后硅片表面实际印刷图形和掩模图形不再一致。这种集成电路版图图形转移的失真,严重影响着最...
亚波长光刻条件下集成电路可制造性设计与验证技术研究
论文题目:亚波长光刻条件下集成电路可制造性设计与验证技术研究论文类型:博士论文论文专业:电路与系统作者:史峥导师:严晓浪关键词:光刻仿真,光学邻近效应,可制造性设计,光学邻近校...