光阻论文

193nm光阻对于绝缘体材料刻蚀工艺的挑战
论文摘要随着超大规模集成技术的发展,为了满足芯片尺寸的日益缩小,193nm光阻被广泛采用。由于193nm光阻的结构,其光阻的图形在绝缘体刻蚀中不容易保持完整,表面粗糙,条纹现象...