硅保护层论文

离子注入中金属污染的防治措施
论文摘要随着栅极氧化层越来越薄,CD线宽越来越窄,离子注入工艺中的金属污染成为离子注入工艺中最重要和急需解决的污染问题。特别是工艺精度进入到90nm以下之后,先进制程增加了金属...