硅衬底论文
硅衬底上GaN外延层和AlGaN/GaN异质结的MOCVD生长研究
论文摘要随着商业化氮化镓(GaN)基发光二极管(LED)、激光器(LD)和高电子迁移率晶体管(HEMT)的相继推出,性能卓越的GaN基器件引起了广泛的关注。然而,过高的成本和大...硅衬底GaN基蓝光LED材料生长及器件研制
论文摘要宽禁带Ⅲ—Ⅴ族氮化物半导体材料在短波长发光器件、短波长激光器、光探测器以及高温、高频和大功率电子器件等方面有着广泛的应用前景而备受关注,发展十分迅速。由于GaN体单晶难...CMP纳米抛光液及抛光工艺相关技术研究
论文摘要集成电路发展至0.25微米工艺之后,唯一可以实现全局平坦化的化学机械抛光(CMP)已成为IC制程的关键工艺之一。更小特征尺寸工艺时代的发展对抛光液及抛光工艺应用技术提出...铁电SBN60薄膜的制备及性能研究
论文摘要本论文探讨了SBN60薄膜的溶胶-凝胶(Sol-Gel)法以及脉冲激光沉积(PLD)法生长技术及其原理。在Sol-Gel法制备中,分别用NbCl5,KOH和Nb(OC2...抛光垫特性及其对化学机械抛光效果影响的研究
论文题目:抛光垫特性及其对化学机械抛光效果影响的研究论文类型:硕士论文论文专业:机械制造及其自动化作者:吴雪花导师:金洙吉关键词:硅衬底,化学机械抛光,抛光垫,修整文献来源:大...