洁净区论文

  • 氢气氛下高温退火对直拉硅中氧的行为的影响

    氢气氛下高温退火对直拉硅中氧的行为的影响

    论文摘要硅材料是微电子产业的基础材料。随着超大规模集成电路(ULSI)特征线宽的不断减小,对直拉硅中杂质和缺陷控制的要求越来越严格。氧是直拉硅单晶中最重要的非故意掺入杂质,与氧...
  • 大直径直拉硅片的一种新型内吸杂工艺研究

    大直径直拉硅片的一种新型内吸杂工艺研究

    论文摘要半导体硅材料是微电子产业的基础材料。多年来,人们一直在研究如何控制和利用直拉硅中的杂质和缺陷,即所谓的“缺陷工程”。其中内吸杂工艺是学术界和工业界普遍关注的重点领域。近...
  • 刘俊菲:甘蔗糖厂成糖工段洁净区检出的部分微生物论文

    刘俊菲:甘蔗糖厂成糖工段洁净区检出的部分微生物论文

    本文主要研究内容作者刘俊菲,林凤,王玉梅,李慧敏,李凯,毛瑞丰(2019)在《甘蔗糖厂成糖工段洁净区检出的部分微生物》一文中研究指出:文章介绍了甘蔗糖厂成糖工段洁净区微生物风险...