近场分布论文

光刻仿真中二维掩模近场的扩展傅立叶分析和严格耦合波分析
论文摘要现代光刻中为了提高系统的分辨率,采用了各种分辨率增强技术:移相掩模技术、离轴照明、光学临近效应校正等。这些技术必然带来数值孔径的提高、光刻关键尺寸的减小、掩模厚度的增加...
半导体激光器反源技术研究
论文摘要对半导体激光器近场分布知识的了解对研制高光束质量半导体激光器有重要参考价值，愈来愈受到国内外学者的重视。本文基于远轴光传播理论，利用远场分布的光强、相位数据和优化理论提...