金刚酮论文

193nm光刻胶酸敏单体的合成研究
论文摘要光刻胶是在制造超大规模集成电路（ULSI）的光刻工艺所需的关键材料,目前世界研究的热点是在硅片上刻蚀几十纳米高分辨率的193nm光刻胶。英特尔已成功将193nm光刻胶应...