金属介质金属论文

0.18微米MIM刻蚀晶片边缘良率的改善
论文摘要随着电子系统向体积更小、速度更快、功能更多、性能更强的方向发展,为了满足市场的需要,半导体公司必须能够更加及时的提升新产品的良率,以更低的成本去大批量的生产更为复杂的产...