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0.18微米侧壁(Spacer)干法刻蚀工艺的开发与优化
论文摘要本论文开发并优化了0.18微米技术侧壁(Spacer)的干法刻蚀工艺,通过利用公司现有设备,改进原工艺不足,开发出满足产品要求的刻蚀工艺。本论文根据0.18微米技术侧壁...