刻蚀选择比论文

氮化钽金属薄膜干法刻蚀的研究
论文摘要氮化钽薄膜在微电子工艺中的应用比较广泛：在标准CMOS后道的铜互连技术中,作为阻挡层被应用；由于氮化钽与高K介质的良好兼容性,在45nm以下CMOS工艺中,正在被开发作...