快速退火论文

论文摘要快速退火炉是现代大规模集成电路生产工艺过程中的关键装备。主要用于离子注入后杂质的激活、浅结制作、生长高质量的氧化膜层和金属硅化物合金形成等工艺。随着集成电路工艺技术的飞...

论文摘要本文分别利用Ar,N2,N2/O2(9%),N2/O2(14%)和O2作为退火气氛,研究了高温快速热处理对大直径直拉硅片中空洞型微缺陷FPDs的退火行为。研究发现,不同...

论文摘要本文首先对显示技术的发展和多晶硅薄膜的制备方法以及应用前景进行了综述,同时对Ni金属诱导非晶硅横向晶化制备多晶硅的研究现状以及诱导机理与应用等进行了系统概述。多晶硅薄膜...