冗余金属填充论文

化学机械研磨（CMP）对电特性影响的分析与优化
论文摘要集成电路进入纳米时代,集成电路设计技术和制造技术联系紧密。在芯片制造和良率逐渐触及物理瓶颈的今天,集成电路制造技术在不断挑战人类工程技术的极限,并产生了一个新的领域--...