• 退火处理对LaAlO3薄膜微结构及性能的影响

    退火处理对LaAlO3薄膜微结构及性能的影响

    论文摘要随着科学的进步和微电子技术的飞速发展,硅基集成电路的集成度越来越高。而集成度的提高是以其核心器件金属-氧化物-半导体场效应管(MOSFET)特征尺寸的逐渐减小为基础的。...