![带光阻晶圆在湿法工艺中的干燥技术研究]()
论文摘要随着集成电路芯片特征尺寸的缩小,芯片制造业对晶圆表面洁净度的要求越来越高,这使得湿法工艺,即湿法刻蚀和湿法清洗工艺在集成电路生产中扮演着越来越重要的角色。干燥是湿法工艺...
![绒面掺铝氧化锌透明导电薄膜的制备与表征]()
论文摘要ZnO薄膜材料因具有无毒、源材料丰富、相对生长温度低和在强H等离子体环境中性能稳定等特点获得了广泛研究和应用。其中ZnO:Al（AZO）薄膜由于电阻率低,在可见光区域透...
![AZO薄膜表面织构机理和表面织构均匀性的研究]()
论文摘要掺铝氧化锌（AZO）透明导电薄膜由于电阻率低、在可见光区域透射率高且织构后的绒面结构能有效地对入射光起到减反作用,增加光的吸收,提高薄膜太阳电池光电转换效率,所以被广泛...
![BST铁电薄膜红外探测器阵列的制备工艺及其电学性能]()
论文摘要铁电薄膜及其集成器件是当前材料科学和微电子领域的研究热点。本文以研发铁电薄膜红外探测器阵列为目标,利用磁控溅射法制备了BST铁电薄膜,研究了金属电极和BST薄膜的微加工...
![面向生物分子痕量探测的微纳流控芯片的设计与制备]()
论文摘要到目前为止,微流控芯片在各个国家都有了长足的发展,纳流控芯片（芯片通道至少一维是纳米尺度）也渐渐的引起人们的广泛关注和研究。由于当通道的特征尺寸由微米下降到纳米级时,通...
![电光移相器阵列用铁电薄膜研究]()
论文摘要利用光学相控阵实现电扫描技术在军用雷达方面具有重要的应用前景，其基本构成单元是电光移相器。采用具有电光效应、响应速度快、热稳定性高、耐强激光的高性能铁电薄膜锆钛酸铅镧（...
![GaAs微探尖的制备、剥离与集成]()
论文摘要扫描近场光学显微术（Scanningnear-fieldopticalmicroscopy或SNOM）是一种新型纳米尺度结构和信息研究的强有力的光电子工具。它利用局限在...
![CMP纳米抛光液及抛光工艺相关技术研究]()
论文摘要集成电路发展至0.25微米工艺之后，唯一可以实现全局平坦化的化学机械抛光（CMP）已成为IC制程的关键工艺之一。更小特征尺寸工艺时代的发展对抛光液及抛光工艺应用技术提出...
![王珊珊：金催化的硅纳米线的可控制备及光学特性研究论文]()
本文主要研究内容作者王珊珊,殷淑静,梁海锋,韩军（2019）在《金催化的硅纳米线的可控制备及光学特性研究》一文中研究指出：硅纳米线是新型一维半导体纳米材料的典型代表。利用阳极氧...
![张昕：GaSb基VCSEL制备工艺研究论文]()
本文主要研究内容作者张昕（2019）在《GaSb基VCSEL制备工艺研究》一文中研究指出：2-5μm中红外波段垂直腔表面发射激光器（VCSEL）具有功耗低、发散角小、无像散圆形...
