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光刻机光源中单元光学系统的ZEMAX模拟
论文摘要极紫外光刻(EUVL)是下一代光刻技术中最有前途的方法,它向人们提供了突破22nm节点的途径。但是,限制EUV技术发展的一个主要制约因素是大功率,高质量大功率的EUV光...