套准精度论文

光刻工艺层间套准精度技术的研究和改进
论文摘要随着集成电路制造业的迅猛发展,线宽尺寸不断减小,对光刻工艺以及光刻系统相关的精度要求也越来越高。其中,光刻对准技术作为光刻的三大核心技术之一,随着光刻分辨力的提高,套准...
Canon KrF扫描光刻机套准精度的改进方法研究
论文摘要随着IC制造业的迅速发展,光刻成像技术的不断提高,芯片的特征尺寸也不断的缩小,而关键尺寸的缩小则产生了对套刻精度更高的要求。套准精度(Overlay)是现代高精度步进扫...