条纹现象论文
193nm光阻对于绝缘体材料刻蚀工艺的挑战
论文摘要随着超大规模集成技术的发展,为了满足芯片尺寸的日益缩小,193nm光阻被广泛采用。由于193nm光阻的结构,其光阻的图形在绝缘体刻蚀中不容易保持完整,表面粗糙,条纹现象...等离子体应用技术的数值模拟研究 ——PDP及其他等离子体辅助技术的数值模拟
论文摘要低温等离子体技术已经在微电子、材料、化工、机械及环保等许多科学领域里得到了广泛地应用。随着人们对低温等离子体发生的物理过程,以及对等离子体与材料表面相互作用机理等各方面...