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用于硅基铁电电容器集成的Ni-Ti、Ni-Al阻挡层研究
论文摘要采用磁控溅射法(magnetronsputtering),室温下在Si(001)基片上制备了可用于铁电存储器集成的导电阻挡层Ni-Ti、Ni-Al以及电极La0.5Sr...