• 电化学刻蚀制备多孔InP及机理研究

    电化学刻蚀制备多孔InP及机理研究

    论文摘要电化学刻蚀的方法是制备多孔半导体材料廉价且简便的工艺技术。在过去的几十年里,大多数的工作集中于多孔Si的制备及机理研究。但是,对Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体的电化学刻蚀工艺还不...