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氢气氛下高温退火对直拉硅中氧的行为的影响
论文摘要硅材料是微电子产业的基础材料。随着超大规模集成电路(ULSI)特征线宽的不断减小,对直拉硅中杂质和缺陷控制的要求越来越严格。氧是直拉硅单晶中最重要的非故意掺入杂质,与氧...