掩模台论文

掩模台机械系统设计及仿真
论文摘要光刻机是集成电路产业的基础设备,光刻机的线宽决定着集成电路的特征尺寸。光刻机研制水平的提高能够带动整个集成电路产业界的技术升级,能够有效地促进国家经济的发展和提高国家高...
极紫外光刻机工件台精密机械及控制相关技术
论文摘要极紫外光刻技术(EUVL)被称为最有发展潜力的下一代光刻技术,有望接替光学光刻,成为45nm以下光刻产业的主流技术。因而,该技术也是目前国际上先进光刻领域研究的热点。工...
云攀攀：超精密掩模台位移测量系统热漂移研究论文
本文主要研究内容作者云攀攀,张文涛,王献英（2019）在《超精密掩模台位移测量系统热漂移研究》一文中研究指出：针对28nm浸没式扫描光刻机掩模台的光栅干涉仪位移测量系统,开展了...