圆平面靶论文

圆平面磁控溅射靶的优化研究
论文摘要磁场分布在整个磁控溅射过程中起着至关重要的作用,磁场强度的大小、分布决定了等离子体的特性,从而对成膜质量、靶材刻蚀的均匀程度以及靶材的利用率均有很大的影响。此外磁控靶的...
小圆平面靶磁控溅射镀膜均匀性的研究
论文摘要磁控溅射镀膜是工业镀膜生产中最主要的技术之一,薄膜厚度均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要指标。现今生产所用的磁控溅射镀膜技术,为力求好的膜厚均匀性,往往将磁控...