重掺杂论文
直拉单晶硅中铜沉淀及其复合活性
论文摘要在硅片和器件制造过程中,作为过渡族金属之一的铜(Cu)有可能会沾污硅片。由于在硅中具有快扩散速率及固溶度随温度急剧下降等特性,Cu很容易在硅片热处理的冷却过程中形成沉淀...CdZnTe晶片表面化学处理及欧姆接触特性的研究
论文摘要本论文对机械抛光的CdZnTe晶片表面化学抛光、化学钝化及接触电极制备原理与方法进行了研究。通过对比实验发现,用2%Br-MeOH对CdZnTe晶片表面进行化学抛光,腐...薛晓晚:第一性原理计算绝缘体-金属转变临界掺杂浓度:Co重掺杂Si体系论文
本文主要研究内容作者薛晓晚,杨影影,秦圆,吴爱民,王旭东,黄昊,姚曼(2019)在《第一性原理计算绝缘体-金属转变临界掺杂浓度:Co重掺杂Si体系》一文中研究指出:基于密度泛函...