紫外光刻论文

紫外光刻法制备图案化的低维纳米结构陈列
论文摘要本文分别以玻璃片和AAO模板为基底,使用BP-212型紫外正性光刻胶,进行光刻工艺条件的研究,找到了在本实验条件下的稳定光刻工艺。最佳的光刻工艺条件为:匀胶量为0.2m...